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UV-Technologie in der Halbleiterindustrie – Reinheit, Präzision und Prozesszuverlässigkeit

In der Halbleiterfertigung gelten höchste Standards hinsichtlich Reinheit, Präzision und Kontrolle. Selbst geringste Verunreinigungen können die Funktion komplexer Mikrostrukturen beeinträchtigen. Die UV-Technologie spielt hier eine zentrale Rolle – insbesondere bei der Oberflächenbehandlung mit Excimerstrahlung und der Desinfektion von Prozesswasser.

 

Moderne UV-Systeme vereinen Reinheit, Effizienz und Nachhaltigkeit – ein Schlüsselfaktor für Zuverlässigkeit und Qualität in der Hightech-Halbleiterproduktion.

 

Die Excimer-UV-Technologie gewährleistet eine präzise, ​​berührungslose Oberflächenreinigung und -aktivierung von Wafern und Substraten und verbessert so Haftung und Prozessstabilität. Die UV-basierte Wasserdesinfektion ermöglicht eine chemikalienfreie mikrobiologische Kontrolle und eliminiert zuverlässig Bakterien, Viren und Biofilme in der Halbleiterproduktion.

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